一種印染廢水處理系統(tǒng)

申請?zhí)枺?01110110968.6申請日：2011-04-29
發(fā)明人郎俊峰黃小標(biāo)
主分類號C02F1/461(2006.01)I
分類號C02F1/461(2006.01)IC02F1/72(2006.01)I
公開(公告)號102139939A
公開(公告)日20110803
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(19)中華人民共和國國家知識產(chǎn)權(quán)局

(12)發(fā)明專利申請
(10)申請公布號CN102139939A(43)申請公布日2011.08.03
(21)申請?zhí)?01110110968.6
(22)申請日2011.04.29

(54)發(fā)明名稱
一種印染廢水處理系統(tǒng)

(57)摘要
一種印染廢水處理系統(tǒng)，包括PP板制成的反應(yīng)池，所述反應(yīng)池內(nèi)分隔設(shè)置電解池、出水池和沉淀池，所述電解池和沉淀池由電解池隔板隔開，所述出水池和沉淀池由出水池隔板隔開；所述出水池由出水池隔板、出水池底板和電解池隔板圍成，所述出水池隔板的頂沿高于所述電解池隔板的頂沿，所述出水池底板連通有伸向所述沉淀池的出水管；所述電解池底部鋪設(shè)碳粒；所述電解池內(nèi)設(shè)置電極陣列，所述電極陣列由銅電極和鐵電極構(gòu)成。本發(fā)明的印染廢水處理系統(tǒng)在電解池底部堆碳，通過雙重分解作用對印染廢水進(jìn)行降解，無論大分子或者小分子污染物均被充分處理，大分子打斷碳鍵，小分子氧化脫色，最終COD的去除率達(dá)到80%。

1.一種印染廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：包括PP板制成的反應(yīng)池，所述反應(yīng)池內(nèi)分隔設(shè)置電解池、出水池和沉淀池；所述電解池和沉淀池由電解池隔板隔開，所述出水池和沉淀池由出水池隔板隔開；所述出水池由出水池隔板、出水池底板和電解池隔板圍成，所述出水池隔板的頂沿高于所述電解池隔板的頂沿，所述出水池底板連通有伸向所述沉淀池的出水管；所述電解池底部鋪設(shè)碳粒；所述電解池內(nèi)設(shè)置電極陣列，所述電極陣列由銅電極和鐵電極構(gòu)成；所述電極陣列設(shè)置為"口"字形，所述"口"字形中部設(shè)置攪拌槳，所述攪拌槳伸至所述電解池的底部；所述沉淀池的側(cè)壁中部或上部設(shè)置達(dá)標(biāo)排水管，所述電解池設(shè)置排入印染廢水的進(jìn)水管和排入氧化劑的加藥管；所述沉淀池的側(cè)壁下部設(shè)置連通于所述進(jìn)水管的循環(huán)管；所述電解池的側(cè)壁底部和所述沉淀池的側(cè)壁底部分別設(shè)置放空管。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的印染廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述進(jìn)水管和循環(huán)管之間設(shè)置循環(huán)水泵。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的印染廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述進(jìn)水管和加藥管由所
述電解池的頂部伸至所述電解池的底部。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的印染廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述反應(yīng)池的外壁的頂沿處和中部分別焊接一圈加強(qiáng)板。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的印染廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述電解池內(nèi)部焊接一圈支撐板，所述支撐板上設(shè)置電極夾板陣列，所述電解池外設(shè)置串接架，所述串接架頂部設(shè)置開孔，所述銅電極和鐵電極頂部設(shè)置有開孔，帶有絕緣皮的串接線穿過所述串接架的開孔與銅電極和鐵電極的開孔，所述銅電極和鐵電極下部穿過所述電極夾板陣列。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的印染廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述支撐板和電解池交接處下部焊接有筋板。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的印染廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述電極夾板陣列由相互插接的橫板和縱板構(gòu)成，且中部留有供所述攪拌槳通過的攪拌空隙。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的印染廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述攪拌槳包括轉(zhuǎn)動軸、焊接于所述轉(zhuǎn)動軸底部的傳動片和焊接于傳動片圓周的槳葉；所述傳動片為圓盤形，所述傳動片垂直于所述轉(zhuǎn)動軸，所述槳葉于所述傳動片圓周方向均勻布置，槳葉垂直于傳動片。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的印染廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述電極陣列的銅電極和鐵電極由外圈至內(nèi)圈交替設(shè)置。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的印染廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述電極陣列最外圈為鐵
電極。

一種印染廢水處理系統(tǒng)

技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及環(huán)保技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種印染廢水處理系統(tǒng)。

背景技術(shù)
[0002]印染廢水的處理是環(huán)保領(lǐng)域重要的研究課題之一，因?yàn)橛∪緩U水中含有的化學(xué)物質(zhì)種類繁多、污染力強(qiáng)，包括染料、助劑、油劑、酸堿物質(zhì)、纖維雜質(zhì)和無機(jī)化合物等多種成分，而且廢水量也特別大，色度高，COD高，雜質(zhì)多，這些因素結(jié)合在一起使印染廢水成為廢水處理領(lǐng)域極為關(guān)注的問題。同時(shí)，由于印染行業(yè)的染料更加朝著多元化方向發(fā)展，各種抗光解、抗氧化和抗生物降解的材料均有所使用，使印染廢水成為非常難以降解的有機(jī)廢水。印染廢水若處理不當(dāng)，排入自然水體后，殘留的染料分子能夠吸收光線，降低水體透明度，影響水生生物和微生物的生長，不利于水體自凈。
[0003]現(xiàn)行的印染廢水處理方法有生物法、物理法、化學(xué)法和物理化學(xué)法。單一的處理方法難以保證處理后的出水能夠達(dá)到國家品質(zhì)要求。

發(fā)明內(nèi)容
[0004]本發(fā)明的目的在于避免現(xiàn)有技術(shù)中的不足之處而提供一種印染廢水處理系統(tǒng)，其通過設(shè)置充分反應(yīng)的電解電極和石墨碳粒，使印染廢水在物理處理和電化學(xué)的雙重作用下充分分解，品質(zhì)達(dá)到國家要求的排放標(biāo)準(zhǔn)。[0005]本發(fā)明的目的通過以下技術(shù)措施實(shí)現(xiàn)。
[0006]一種印染廢水處理系統(tǒng)，包括PP板制成的反應(yīng)池，所述反應(yīng)池內(nèi)分隔設(shè)置電解池、出水池和沉淀池；所述電解池和沉淀池由電解池隔板隔開，所述出水池和沉淀池由出水池隔板隔開；所述出水池由出水池隔板、出水池底板和電解池隔板圍成，所述出水池隔板的頂沿高于所述電解池隔板的頂沿，所述出水池底板連通有伸向所述沉淀池的出水管；所述電解池底部鋪設(shè)碳粒；所述電解池內(nèi)設(shè)置電極陣列，所述電極陣列由銅電極和鐵電極構(gòu)成；所述電極陣列設(shè)置為"口"字形，所述"口"字形中部設(shè)置攪拌槳，所述攪拌槳伸至所述電解池的底部；所述沉淀池的側(cè)壁中部或上部設(shè)置達(dá)標(biāo)排水管，所述電解池設(shè)置排入印染廢水的進(jìn)水管和排入氧化劑的加藥管；所述沉淀池的側(cè)壁下部設(shè)置連通于所述進(jìn)水管的循環(huán)
管；所述電解池的側(cè)壁底部和所述沉淀池的側(cè)壁底部分別設(shè)置放空管。
[0007]所述進(jìn)水管和循環(huán)管之間設(shè)置循環(huán)水泵。
[0008]所述進(jìn)水管和加藥管由所述電解池的頂部伸至所述電解池的底部。[0009]所述反應(yīng)池的外壁的頂沿處和中部分別焊接一圈加強(qiáng)板。
[0010]所述電解池內(nèi)部焊接一圈支撐板，所述支撐板上設(shè)置電極夾板陣列，所述電解池外設(shè)置串接架，所述串接架頂部設(shè)置開孔，所述銅電極和鐵電極頂部設(shè)置有開孔，帶有絕緣皮的串接線穿過所述串接架的開孔與銅電極和鐵電極的開孔，所述銅電極和鐵電極下部穿
過所述電極夾板陣列。
[0011]所述支撐板和電解池交接處下部焊接有筋板。[0012]所述電極夾板陣列由相互插接的橫板和縱板構(gòu)成，且中部留有供所述攪拌槳通過的攪拌空隙。
[0013]所述攪拌槳包括轉(zhuǎn)動軸、焊接于所述轉(zhuǎn)動軸底部的傳動片和焊接于傳動片圓周的槳葉；所述傳動片為圓盤形，所述傳動片垂直于所述轉(zhuǎn)動軸，所述槳葉于所述傳動片圓周方向均勻布置，槳葉垂直于傳動片。
[0014]所述電極陣列的銅電極和鐵電極由外圈至內(nèi)圈交替設(shè)置。[0015]所述電極陣列最外圈為鐵電極。
[0016]本發(fā)明的印染廢水處理系統(tǒng)在電解池底部堆碳，通過雙重分解作用對印染廢水進(jìn)行降解，無論大分子或者小分子污染物均被充分處理，大分子打斷碳鍵，小分子氧化脫色，最終COD的去除率達(dá)到80%。

附圖說明
[0017]利用附圖對本發(fā)明做進(jìn)一步說明，但附圖中的內(nèi)容不構(gòu)成對本發(fā)明的任何限制。
[0018]圖1是本發(fā)明的一個實(shí)施例的側(cè)面剖面圖。
[0019]圖2是本發(fā)明的一個實(shí)施例的反應(yīng)池的立體圖。
[0020]圖3是本發(fā)明的一個實(shí)施例的電極夾板陣列的結(jié)構(gòu)圖。
[0021]圖4是本發(fā)明的一個實(shí)施例的串接架與電極陣列的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0022]圖5是本發(fā)明的一個實(shí)施例的攪拌槳的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]圖6是本發(fā)明的一個實(shí)施例的攪拌槳的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0024]圖7是本發(fā)明的一個實(shí)施例的電極陣列的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0025]附圖標(biāo)記：反應(yīng)池100，反應(yīng)池加強(qiáng)板102、103，電解池10，出水池11，出水管12，沉淀池13，電解池隔板101，出水池隔板111，出水池底板112；支撐板104、筋板105；銅電極21，鐵電極22，電極夾板陣列23，串接線24，串接架25；攪拌槳3，攪拌空隙233，傳動軸31，傳動片32，槳葉33；碳粒4；進(jìn)水管51，加藥管52，放空管53、54，達(dá)標(biāo)排水管55、56；循環(huán)水泵6。

具體實(shí)施方式
[0026]結(jié)合以下實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步說明。
[0027]實(shí)施例1
本實(shí)施例的印染廢水處理系統(tǒng)如圖1和圖2所示，包括PP板制成的反應(yīng)池100，所述反應(yīng)池100內(nèi)分隔設(shè)置電解池10、出水池11和沉淀池13；所述電解池10和沉淀池13由電解池隔板101隔開，所述出水池11和沉淀池13由出水池隔板111隔開；所述出水池13由出水池隔板111、出水池底板112和電解池隔板101圍成，所述出水池隔板111的頂沿高于所述電解池隔板101的頂沿，所述出水池底板112連通有伸向所述沉淀池13的出水管12；所述電解池10底部鋪設(shè)碳粒4；所述電解池10內(nèi)設(shè)置電極陣列，所述電極陣列由銅電極21和鐵電極22構(gòu)成；所述電極陣列設(shè)置為"口"字形，所述"口"字形中部設(shè)置攪拌槳3，所述攪拌槳3伸至所述電解池10的底部；所述沉淀池13的側(cè)壁中部或上部設(shè)置達(dá)標(biāo)排水管55、56，所述電解池10設(shè)置排入印染廢水的進(jìn)水管51和排入氧化劑的加藥管52；所述沉淀池13的側(cè)壁下部設(shè)置連通于所述進(jìn)水管51的循環(huán)管57；所述電解池10的側(cè)壁底部和所述沉淀池13的側(cè)壁底部分別設(shè)置放空管53和54。
[0028]電解池隔板101、出水池隔板111和出水池底板112均為PP板制成。[0029]實(shí)施例2
參照圖1，本實(shí)施例在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上，所述進(jìn)水管51和循環(huán)管57之間設(shè)置循環(huán)水泵6。
[0030]所述進(jìn)水管51和加藥管52由所述電解池10的頂部伸至所述電解池10的底部。[0031]所述反應(yīng)池100的外壁的頂沿處和中部分別焊接一圈加強(qiáng)板102和103。
[0032]實(shí)施例3
參照圖1一圖4，本實(shí)施例在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上，所述電解池10內(nèi)部焊接一圈支撐板104，所述支撐板104上設(shè)置電極夾板陣列23，所述電解池10外設(shè)置串接架25，所述串接架25頂部設(shè)置開孔，所述銅電極21和鐵電極22頂部設(shè)置有開孔，帶有絕緣皮的串接線24穿過所述串接架25的開孔與銅電極21和鐵電極22的開孔，所述銅電極21和鐵電極22下部穿過所述電極夾板陣列23。所述支撐板104和電解池10交接處下部焊接有筋板105。[0033]銅電極21和鐵電極22上部由串接線24固定，下部由電極夾板陣列23固定。[0034]所述電極夾板陣列23由相互插接的橫板和縱板構(gòu)成，且中部留有供所述攪拌槳3通過的攪拌空隙233。橫板和縱板交叉形成方格，銅電極21和鐵電極22穿過所述方格被所述電極夾板陣列23固定住。[0035]實(shí)施例4
參照圖5和圖6，本實(shí)施例在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上，所述攪拌槳3包括轉(zhuǎn)動軸31、焊接于所述轉(zhuǎn)動軸31底部的傳動片32和焊接于傳動片32圓周的槳葉33；所述傳動片32為圓盤形，所述傳動片32垂直于所述轉(zhuǎn)動軸31，所述槳葉33于所述傳動片32圓周方向均勻布置，槳葉33垂直于傳動片32。[0036]實(shí)施例5
參照圖7，所述電極陣列的銅電極21和鐵電極22由外圈至內(nèi)圈交替設(shè)置。所述電極陣列最外圈為鐵電極22，再向內(nèi)一圈為銅電極21，然后再向內(nèi)一圈為鐵電極22，以此類推。[0037]最后應(yīng)當(dāng)說明的是，以上實(shí)施例僅用于說明本發(fā)明的技術(shù)方案而非對本發(fā)明保護(hù)
范圍的限制，盡管參照較佳實(shí)施例對本發(fā)明作了詳細(xì)說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，可以對本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，而不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的實(shí)質(zhì)和
范圍。